中国工程院增选名单出炉，四川2人入选

四川在线消息(记者 熊筱伟 朱雪黎)中国工程科学技术界的最高荣誉性、咨询性学术机构——中国工程院再次迎来一批新成员。

11月22日，中国工程院公布了2019年院士增选结果，共75位科学家当选工程院院士。其中有两位来自四川，他们分别是来自中国核动力研究设计院的罗琦，入选能源与矿业工程学部，以及中国科学院光电技术研究所的罗先刚，入选信息与电子工程学部。

根据公开信息，罗琦出生于1967年9月，四川富顺人，如今是中国核动力研究设计院院长，第十二届、第十三届全国政协委员，项目总设计师，中央军委装备发展部军用核动力技术预研专业组组长，中国核能行业协会副理事长，国防科技工业核动力技术创新中心主任，国家能源反应堆及先进核燃料元件研发中心主任。

罗琦长期从事核动力研发设计工作，致力我国核电发展的“中国创造 ”。先后发表论文26篇，专利20余项。获得国家科学技术进步一等奖1项(排名 第1)，国家科学技术进步二等奖1项(排名第5)，省部级科学技术进步一等奖4项(3项排名第1)，个人一等功和个人二等功各1次，中国杰出质量人奖。是国家级有突出贡献的中青年专家，入选国家百千万人才工程，中央企业劳动模范， 享受国务院政府特殊津贴。

根据官方网站介绍，罗先刚现任中科院光电技术研究所所长，微细加工光学技术国家重点实验室主任，所学术委员会副主任，所学位委员会委员。国家杰出青年科学基金获得者，国家973项目首席科学家，OSA Fellow,SPIE Fellow，IAPLE Fellow。先后主持完成了包括国家重大科学基础研究、中国科学院院长基金、中科院知识创新、国家自然科学基金等项目在内的多项国家级课题及国际合作研究课题。主要研究方向包括表面等离子体光学，亚波长电磁学，悬链线光学，微纳光刻技术，亚波长人工结构材料和器件，仿生光子器件及系统等。发表SCI收录论文300余篇，被国际同行高度评价。研究成果获国家技术发明一等奖、省部级技术发明特等奖、一等奖多项。

在芯片制造的核心设备——光刻机方面，罗先刚和团队研制了国际上第一套分辨率突破了衍射极限的光刻设备“超分辨光刻装备”。该光刻机光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。